膜厚ムラ解析装置
本装置は測定対象表面に光を照射し、膜表面からの反射光と膜を透過後基盤表面から返ってくる反射光の光路差による位相のずれから生ずる干渉色をCCDカラーカメラでとらえ、独自の膜厚むらアルゴリズムでの画像解析により表面コーティングの膜厚および面としての膜厚むらを瞬時に計測できる画期的な非接触式膜厚均一性計測装置です。
（株）アイ・システム
● 従来の一点を表示する膜厚計とは違い、カラーカメラでとらえた膜全体に対する濃度・色むらを2次元の画像として測定し、独自のアルゴリズムで膜全体の厚みむらの数値化を行います。
● 膜全体の膜厚および膜厚むらを瞬時に、しかも非接触で計測数値化しますので、検査・品質管理はもちろん、成膜工程でのオンライン測定（全品検査）に最適です。
● 測定分解能は100から数万Å（オングストローム）を識別します。（校正を必要とする）
● ITO膜・配向膜・パターン形成時の各種膜厚はもちろん、ウェハー等半導体業界の薄膜測定にも応用可能です。
● 本装置は、基準膜による校正が可能なうえに、ほとんどドリフトを起こさないため社内検査基準を統一化できます。
● 本装置により計測し、デジタル化されたデータは画像として表示できるため、貴社の画像データベース（劣化しない基準膜）として、今後の研究開発の大きな戦力となります。
